米地密集图形。才一下动了心。通常的光刻机，在光刻镜头与硅晶元之间，没有任何遮挡。当然，从另一个方面来说，他们中间。充斥的是空气。浸入式的思路，就是用液体。来替换中间的空气。由於液体具有折光率，所以当紫外线光通过液体介质后，其光源波长会缩短。从而起到精微刻制的作用。用主流的三百六十纳米技术来说，採用折射率为一点五的液体，其光波就能变成二百四十纳米！而寰宇公司费尽心机弄回来的二百四十八纳米地光刻机，採用了一点五地浸入式技术，立即就摇身一变，成为一百六十五纳米光刻机，远远超过现有的光刻技术！其实浸入式光刻，並非寰宇公司首创。但真正长期將其作为一个研究项目的研究单位，全世界也只有寰宇公司。光刻技术的发展，从一代技术向下一代技术发展地时候。总会出现瓶颈。因此，早在久久年。就有科学家採用浸入技术，成功地提高了光刻效果。然而，由於浸入式光刻技术，它的液体很容易污染光学镜片，所以主流光刻技术研究，只是將其作为一个过渡手段，没有重视。一旦下一代光刻技术成熟，便毫不犹豫地拋弃浸入式光刻。但寰宇公司不同。汪工等精密仪器公司的研究人员。虽然使出浑身解数。但限於光学技术的制约。在光刻机上，总是落后於西方。穷则变。变则通。他们为了改进光刻精度。把所有可以利用的技术，都使用遍了。最后，经过反覆研究。他们在不放弃光学研究地同时，將主要精力。都投入了浸入式光刻技术的研究，並於近期，取得了极大地成果。他们开发出了全套地浸入式技术。如折光率不同的液体，就从一点五五到二不等的多种浸入式液体材料。而影响到光刻效果的液体泡沫、透光率、专用光刻胶等等相关研究，也取得了巨大的成功，已经初步可以实用化。精密仪器实验室，已经选定了一种特製液体，作为浸入式光刻技术地主要材料。
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